2012 ENIAC JU INNOVATION AWARD geht an die Projekte IMPROVE und LENS

MÜNCHEN--(BUSINESS WIRE)--Zwei Forschungsprojekte mit einem Gesamtbudget von fast 70 Mio. Euro wurden für die erzielten beachtlichen Fortschritte im Bereich der Halbleiterproduktionsleistung auf dem European Nanoelectronics Forum mit dem 2012 ENIAC JU INNOVATION AWARD ausgezeichnet.

„Im Rahmen des IMPROVE-Projekts arbeiteten sechs Hersteller mit Betriebsstätten in Europa mit insgesamt 14 institutionellen und universitären Forschungslabors sowie 10 Anbietern von industriellen Lösungen zusammen, um den Stand der Technik im Bereich der Herstellungsverfahren weiterzuentwickeln und durch Effizienz und Innovation die Wettbewerbsfähigkeit zu gewährleisten.“

Die am IMPROVE-Projekt beteiligten Partner entwickelten Rechenmodelle für Anlagenverhalten und Einsatzhistorie, die mittels virtueller Messtechnik, prädiktiver Wartung und adaptiver Kontrollpläne beträchtliche Verbesserungen von Durchsatz, Stabilität und Reproduzierbarkeit sowie der Gesamtproduktionsleistung von Halbleiterfabriken erzielen konnten. Francois Finck von STMicroelectronics, der Leiter des Projekts, sagte: „Im Rahmen des IMPROVE-Projekts arbeiteten sechs Hersteller mit Betriebsstätten in Europa mit insgesamt 14 institutionellen und universitären Forschungslabors sowie 10 Anbietern von industriellen Lösungen zusammen, um den Stand der Technik im Bereich der Herstellungsverfahren weiterzuentwickeln und durch Effizienz und Innovation die Wettbewerbsfähigkeit zu gewährleisten.“

Im Rahmen des LENS-Projektes erreichten die beteiligten 12 Projektpartner beträchtliche Weiterentwicklungen in den Bereichen Konzeption, Masken, Messtechnik, Belichtungssystems, Materialien und Prozessintegration. Um die Anwendungspalette der etablierten Immersionslithografie-Technik zu erweitern, wurden Doppelbelichtung für Ein-Chip-Systeme und Spacer-basierte Pitch-Verdopplung für Phasenwechselspeicher (PCM) zum Einsatz gebracht. Gerold Alberga von ASML, der Leiter des Projekts, sagte: „Im LENS-Projekt wurde die gesamte Lithografie-Lieferkette berücksichtigt. Dabei wurden Patterning-Auflösungen mit Immersions-Fotolithografiesystemen erreicht, die mit 32 – 22nm-Technologieknoten für Speicher- und Logikbauelemente kompatible sind. Dies ermöglicht die zeitnahe und wirtschaftlich effiziente Entwicklung der nächsten Generationen von Halbleiterbauelementen.“

Die Projekte erhielten Fördermittel des ENIAC JU und der ENIAC-Mitgliedsstaaten (IMPROVE: Österreich, Frankreich, Deutschland, Irland, Italien und Portugal; LENS: Belgien, Frankreich, Italien, Spanien und die Niederlande).

Andreas Wild, Executive Director von ENIAC JU, sagte: „Die Projekte IMPROVE und LENS wurden in dem offenen und wettbewerbsorientierten Aufruf zur Einreichung von Projektvorschlägen des Jahres 2008 ausgewählt und kommen dieses Jahr zum Abschluss. Zwischen 2008 und 2011 wurden im Rahmen des ENIAC JU-Programms 40 Projekte mit einem Gesamtbudget von über 1 Mrd. Euro gestartet. Dies macht deutlich, dass Öffentlich-Private-Partnerschaften erheblich zum Vorantreiben von Innovation beitragen.”

Im Rahmen derselben Veranstaltung vergab der EUREKA-Cluster CATRENE seinen Innovationspreis an das Projekt EXEPT. Weitergehende Informationen finden Sie unter http://www.catrene.org/

ÜBER ENIAC Joint Undertaking (JU)

ENIAC Joint Undertaking (JU) ist eine Öffentlich-Private-Partnerschaft in der Nanoelektronik, welche die ENIAC-Mitgliedsstaaten, die Europäische Union und AENEAS (ein Branchenverband europäischer Forschungs- und Entwicklungsorganisationen) zusammenbringt.

Sie koordiniert Forschungsinitiativen durch wettbewerbsorientierte Aufrufe zur Einreichung von Projektvorschlägen, um die Integration und Miniaturisierung von Geräten weiter voranzutreiben und deren Funktionsumfang zu erweitern Sie soll neue Materialien, Geräte und Verfahren, neuartige Architekturen, innovative Herstellungsverfahren, bahnbrechende Entwicklungsmethoden sowie neue Verpackungstechnologien und Systemisierungsansätze hervorbringen. Sie wird innovative Hightech-Anwendungen nutzen und vorantreiben, die in den Bereichen Kommunikation und Informationstechnologie, Verkehr, Gesundheitsversorgung und Wellness, Energie und Umwelt, Sicherheit und Arbeitsschutz sowie in der Unterhaltung zum Einsatz kommen.

ENIAC JU wurde im Februar 2008 ins Leben gerufen und wird bis 2013 Zuschussmittel verteilen. Die zur Finanzierung ausgewählten Projekte sollen bis zum 31. Dezember 2017 laufen. Der Gesamtwert der durch ENIAC JU generierten Forschungs- und Entwicklungsaktivitäten wird auf 3 Mrd. Euro geschätzt.

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